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亚星游戏官网-yaxin222  中校

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发表于 2022-9-27 09:18:28 来自手机 |显示全部楼层
日前,美国企业Zyvex使用电子束光刻技术制造了0.7nm的芯片,这种芯片可用于量子计算机。Zyvex推出的光刻系统名为ZyvexLitho1,基于STM扫描隧道显微镜,使用的是EBL电子束光刻方式,制造出了0.7nm线宽的芯片,这个精度是远高于EUV光刻系统的,相当于2个硅原子的宽度,是当前制造精度最高的光刻系统。


EBL电子束光刻机的精度虽然可以轻松超过EUV光刻机,但是这种技术的缺点也很明显,那就是产量很低,无法大规模制造芯片,只适合制作那些小批量的高精度芯片或者器件,指望它们取代EUV光刻机也不现实。

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