俄罗斯首台光刻机问世，可生产350纳米芯片

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据塔斯社报道，俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试。

俄罗斯联邦工业和贸易部副部长瓦西里-什帕克（Vasily Shpak）指出，该设备可确保生产 350纳米的芯片。

什帕克告诉媒体：“大家组装并制造了第一台国产光刻机。作为泽廖诺格勒技术生产线的一部分，目前正在对其进行测试。”

在全球范围内，这种复杂程度的设备由几家主要企业组装，其中最大的是荷兰的 ASML 企业以及佳能和尼康。

目前，台积电和SAMSUNG利用ASML的EUV光刻技术，已经能够生产出精细至3纳米甚至2纳米的芯片。尽管350纳米的芯片技术相较之下显得落后，但它在汽车、能源和电信等诸多行业中仍有着应用价值。对于受到美西方严厉制裁的俄罗斯半导体产业而言，这一进展无疑是一则喜讯。这意味着，俄罗斯在自主发展半导体技术的道路上取得了突破，有望减少对外部技术的依赖，提升国内产业的自主性和竞争力。